技術提携：レアアース研磨剤の品質の安定性を向上させる技術について

• 会社概要：私どもは現在会員数100社を超え、内70％～80％はメーカーの、技術を主体とした産業連盟である。
• 公募経緯：研磨剤は通常、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化クロムなどの酸化物（oxide）から構成される。主に各種光学ガラスデバイス、テレビブラウン管、光学レンズ、オシロスコープ、板ガラス、半導体ウエハー、精密金属加工部品などの研磨に使用される。
• 課題：レアアース研磨剤の性能は粒径と粒度分布に大きく左右される。成分と加工方法が一定の場合、平均粒径が大きいほど、研磨速度と研磨後の被削体の表面の粗さが大きい。多くの場合、平均粒径4㎛時に、研磨速度が最大になる。いっぽう、平均粒径が小さいほど、必要な研磨時間が長くなり、研磨後の表面の粗さが小さくなる。標準の研磨剤は粒度分布が狭く、大きすぎる粒子も小さすぎる粒子も含まれていない。大きすぎる粒子を含まないことで、高品位な表面仕上げが可能になり、小さすぎるい粒子を含まないことで、研磨スピードが上がる。従って、研磨剤の各種性能を向上させるためには、平均粒径と粒度分布を安定させる必要がある。
• 目標：
• 平均粒径を増大しつつ、粒度分布を安定させる。
• 単結晶粒子を増やすことで、耐摩耗性と流動性を保つ。
• 懸濁性を向上させる。
• 研磨助剤を用いることで研磨効果を高める。

また、当技術提携の詳細情報については、当サイトにお問い合わせください。

尚、お問い合わせは：songzhiguang@bjpait.com

免責事項について：
・掲載したニュースは、すでに公に発表された諸情報を日本語に翻訳してお届けしています（情報源は問い合わせ可）。
　ニュースの内容は、本サイトがその見解を支持することを意味するものではなく、必ずしも正確性・信頼性を保証するものではありません。
・本サイトに掲載されている文章、画像、音声、映像などの著作権は、原権利者に帰属します。本サイトおよび原権利者の許諾を得ずに、私的複製やアップロードすることはできません。
・本サイトは、本サイトにおけるコンテンツの不適切な複製または引用によって生じた民事上の紛争、行政上の処理、およびその他の損失について責任を負いません。
・本サイトに掲載されている資本市場や上場企業に関する記事は、いかなる投資助言を行うものではなく、投資案件についての助言として利用する場合は、自らの責任で行ってください。
・誹謗中傷、宣伝行為、および法律・当サイトのポリシーなどにより禁止されているコメントは、管理人の裁量によって承認せず、削除することがあります。